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		高選擇性分離分子印跡技術(shù)的聚合過程可分為三步

　　分子印跡技術(shù)是20世紀(jì)末出現(xiàn)的一種高選擇性分離技術(shù)，這種技術(shù)是選用能與印跡分子產(chǎn)生特定相互作用的功能性單體，在印跡分子周圍與交聯(lián)劑進(jìn)行聚合，形成三位交聯(lián)的聚合物網(wǎng)絡(luò)，然后，通過合適的溶劑除去印跡分子，在聚合物網(wǎng)絡(luò)中形成空間和化學(xué)功能與印跡分子互補(bǔ)的空穴。

　　整個(gè)聚合過程可分為三步：印跡、聚合、去除印跡分子。MIT的基本思想是源于人們對(duì)抗體-抗原專一性的認(rèn)識(shí)，即一種抗體只能針對(duì)一種抗原，而MIT則通過人工方法合成與目標(biāo)分子耦合的大分子化合物，由于MIT模仿了生物界的抗原-抗體作用原理，使制備的材料有著極高的選擇性，因而受到全球眾多研究人員的重視，很快在許多相關(guān)領(lǐng)域（如手性拆分、固相萃取、人工酶學(xué)、化學(xué)或生物傳感器、不對(duì)稱催化等方面）得到了廣泛的應(yīng)用。

　　以MIT制備出來(lái)的他子印跡聚合物不僅是具有特定的選擇性和高親和性的他子識(shí)別材料，而且還具有很好的物理化學(xué)穩(wěn)定性，如能抵抗很強(qiáng)的機(jī)械作用力、能耐高溫高壓、能抵抗酸堿、高濃度的鹽溶液及有機(jī)溶洞劑作用，使用壽命長(zhǎng)，能多次重復(fù)使用而不損失

　　分子記憶效應(yīng)。文獻(xiàn)報(bào)道，他子印跡聚合物反復(fù)使用100次之后，其印跡能力也未發(fā)生衰減，保存8個(gè)月之后其性能不發(fā)生改變。另外，與目標(biāo)分子相比，MIT制備方法簡(jiǎn)單，價(jià)格低廉。

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